技術(shù)編號：10651405
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。通常，在半導(dǎo)體制造工藝中使用許多化學(xué)物質(zhì)。例如，在半導(dǎo)體制造工藝中使用清潔溶液、感光溶液、顯影溶液及刻蝕溶液，其中，在晶片的切割與拋光工藝之后的清潔操作中使用清潔溶液，在晶片的感光工藝中使用感光溶液，在晶片的顯影工藝中使用顯影溶液， 并且在晶片的刻蝕工藝中使用刻蝕溶液。這些化學(xué)物質(zhì)經(jīng)由輸送管被輸送到用于執(zhí)行各個(gè)工藝的現(xiàn)場位置。由于輸送管的缺陷或劣化，化學(xué)物質(zhì)可能泄漏到輸送管外部。由于泄露的化學(xué)物質(zhì)對半導(dǎo)體制造現(xiàn)場中的其它器件或部件具有不利影響，因此有必要檢...
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