技術編號：10734487
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。雙面拋光機在工業(yè)拋光作業(yè)中能起到良好的拋光效果。但是，有些材質(zhì)的工件需要長時間的拋光才能達到表面度要求。現(xiàn)有的拋光機遇到這一情況就會產(chǎn)生致命的問題，就是隨著拋光時間的延長，拋光機自身的溫度也會升高。這樣就會造成拋光機拋光盤變形，影響拋光精度，導致拋光產(chǎn)品達不到拋光要求。中國專利其公開號CN204094637U提供了一種用于給下拋光盤降溫的晶片拋光機中下拋光盤的冷卻裝置，包括冷卻盤，冷卻盤的中央開設有進水孔和出水孔，冷卻盤的背面上設置有與進水孔相通的進水管和...
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