技術(shù)編號：10744496
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。離子濺射形成干涉膜是增進(jìn)相間襯度顯示組織的新方法。離子濺射鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電，產(chǎn)生正的氣體離子;在陰極(靶)和陽極(試樣)間電壓的加速作用下，荷正電的離子轟擊陰極表面，使陰極表面材料原子化;形成的中性原子，從各個(gè)方向?yàn)R出，射落到試樣的表面，于是在試樣表面上形成一層均勻的薄膜。現(xiàn)在的離子濺射鍍膜，多半是在反應(yīng)氣體存在下進(jìn)行的，化合物沉積膜的穩(wěn)定性和光學(xué)常數(shù)，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應(yīng)氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時(shí)...
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