技術編號：10817968
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。赫爾槽，又名霍爾槽，哈氏槽，霍耳槽等等，都是來源于英文HULLCELL的中文音譯，赫爾槽實驗是一種實驗效果好，操作簡單，所需溶液體積小的小型電鍍試驗。它可以較好在短時間內(nèi)確定獲得外觀合格鍍層的電流密度及其他工藝條件，如溫度，PH值等。用于研究電鍍?nèi)芤褐兄饕M分和添加劑的相互影響，幫助分析電鍍?nèi)芤寒a(chǎn)生故障的原因，此外赫爾槽實驗還可以測定電鍍?nèi)芤旱姆稚⒛芰?、整平能力以及鍍層的?nèi)應力，因此，赫爾槽試驗在電鍍實驗研究和現(xiàn)場生產(chǎn)質(zhì)量控制方面得到了廣泛的應用。而赫爾槽...
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