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技術(shù)編號：11061155

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本發(fā)明涉及高純氧化亞硅的制備技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是中頻感應(yīng)加熱方式制備高純氧化亞硅的方法及設(shè)備。背景技術(shù)氧化亞硅微粉因極富有活性，可作為精細陶瓷如氮化硅、碳化硅等合成原料；在真空中將其蒸發(fā)，涂在光學儀器用的金屬反射鏡面上，可作為光學玻璃和半導體材料；氧化亞硅還可用于制備性能優(yōu)良的鋰離子電池負極材料。氧化亞硅的制備原理為Si+SiO2→SiO，將硅粉和二氧化硅按1∶1摩爾比混合，在真空條件下加熱后獲得產(chǎn)物。這個反應(yīng)是可逆反應(yīng)，如果進一步降低壓力，提高溫度，平衡則向氧化亞硅側(cè)移動。早期的氧化亞硅生產(chǎn)裝...
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