技術(shù)編號(hào):11088157
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種布?xì)庋b置及旋轉(zhuǎn)陰極。背景技術(shù)旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極是目前大面積真空鍍膜的重要設(shè)備之一。旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極的原理是一根表面附有濺射耙材或整根都是濺射耙材的中空管,繞懸掛在管中間靜止不動(dòng)的磁鐵陣列旋轉(zhuǎn),控制工藝過(guò)程中的等離子體合理分布,由此耙穿過(guò)靜止的等離子體區(qū)域,并且整個(gè)工藝過(guò)程中都有耙材濺射。一個(gè)理想的旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極需要耙管旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),工藝過(guò)程中靶管內(nèi)部需要冷卻水冷卻,濺射過(guò)程中對(duì)旋轉(zhuǎn)的靶管輸入電功率,冷卻水和真空都需要旋轉(zhuǎn)密封,耙材利用率(高達(dá)90%),這就意味著更長(zhǎng)時(shí)間的濺射過(guò)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。