技術(shù)編號:1111993
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及 一 種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備,該設(shè)備包括電磁輻射源;發(fā)射窗口,該發(fā)射窗口光學(xué)地連接到電磁輻射源并 且能夠發(fā)射電磁輻射;至少一個設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中的凹口;以 及壓力計,用于測量凹口內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力。背景技術(shù)一種上面提及的類型的設(shè)備從WO 2005/009266 Al中已知。該 文件中公開的器件包括用于在凹口中產(chǎn)生負(fù)壓的真空裝置。如果設(shè) 備的輻射傳輸頭部適當(dāng)?shù)嘏c待處理的皮膚相接觸,則負(fù)壓僅可以被 建立或者維持。如果輻射傳輸頭部...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。