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技術(shù)編號(hào)：11282461

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多層納米纖維化學(xué)機(jī)械拋光墊背景技術(shù)領(lǐng)域本公開(kāi)的實(shí)施方式大體涉及用于基板或晶片的化學(xué)機(jī)械拋光的裝置和方法，更確切地涉及拋光制品制造系統(tǒng)，以及制造和使用用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光墊或拋光制品的方法。背景技術(shù)化學(xué)機(jī)械拋光(Chemicalmechanicalpolishing；CMP)為已經(jīng)在許多不同工業(yè)中用以磨平基板表面的常規(guī)工藝。在半導(dǎo)體工業(yè)中，隨著元件特征尺寸越來(lái)越小，拋光和磨平的均勻性已變得越來(lái)越重要。在CMP工藝過(guò)程中，諸如硅晶片的基板安裝在承載頭上，器件表面抵靠旋轉(zhuǎn)拋光墊放置。承載頭在基板上提...
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