技術(shù)編號：11284385
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種新型的納米薄膜厚度的檢測技術(shù)，具體地說是一種基于超聲輔助原子力顯微鏡(AFM)技術(shù)的新型納米薄膜檢測模式-相位檢測模式的檢測裝置和方法。主要用于需要納米薄膜厚度檢測的領(lǐng)域，包括材料、生命科學(xué)等各個領(lǐng)域。背景技術(shù)納米薄膜對納米技術(shù)的發(fā)展十分重要。在新型材料領(lǐng)域，以二維材料為代表的納米薄膜有望取代硅基材料成為新的電子基礎(chǔ)材料。然而，大部分的二維納米材料需要在特定厚度的狀態(tài)下才能發(fā)揮出其優(yōu)異的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)或者力學(xué)性能。比如單層的石墨烯是最薄、強度最大、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能最強的一種新型納米材...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。