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技術(shù)編號：11388094

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直流脈沖等離子體系統(tǒng)優(yōu)先權(quán)要求本申請要求于2016年2月29日提交的題為“DirectCurrentPulsingPlasmaSystems”的美國臨時專利申請No.62/301,591的優(yōu)先權(quán)，其通過引用并入本文。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明的實施方式涉及等離子體處理系統(tǒng)，并且更具體而言，涉及利用直流(DC)脈沖作為功率源的等離子體處理系統(tǒng)。背景技術(shù)等離子體長期以來被用于處理襯底(例如，半導(dǎo)體晶片、平板等)以形成電子產(chǎn)品(例如，集成電路、平板顯示器等)。半導(dǎo)體晶片通常放置在具有光致抗蝕劑掩模層的蝕刻室中以選...
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