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本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體的，本發(fā)明涉及陣列基板及其制備方法、顯示面板。背景技術(shù)現(xiàn)行的像素設(shè)計(jì)中，為了節(jié)約成本一般會(huì)采用掩膜(MASK)數(shù)目減少的方案，即將源漏電極層(SD)和有源層(ACT)共用一張半色調(diào)掩膜版(HTMMASK)的方案，并且該方案已在很多像素設(shè)計(jì)上使用。但是由于HTMNASK形成的SD金屬下方均會(huì)有ACT，參考圖1a～圖1d和圖2，特別是在圖2所示的三處溝道處(Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ)，源漏電極處的有源層(Active)會(huì)外漏在柵極(gate)外。在受到光照(hv)時(shí)，參考圖2，在柵極2...
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