技術(shù)編號：11409163
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于EUV波長范圍的反射鏡和一種制造該反射鏡的方法。此外，本發(fā)明涉及包括這種反射鏡的用于微光刻的EUV光源、EUV照明系統(tǒng)和EUV投射鏡頭。此外，本發(fā)明涉及一種用于微光刻的投射曝光設(shè)備背景技術(shù)EUV波長范圍的用于微光刻的投射曝光設(shè)備必須依賴用于曝光或?qū)⒀谀３上裼谙衩嬷械姆瓷溏R具有高反射率的設(shè)想，因為，首先，單獨反射鏡的反射率的乘積決定投射曝光設(shè)備的總傳輸率，并且因為，其次，EUV光源的光功率有限。在該情況下，EUV波長范圍被理解為具有5nm至20nm之間波長的光的波長范圍。例如，從...
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