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一種FeS2納米線的制備方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11427637

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本發(fā)明涉及納米材料領(lǐng)域,具體涉及FeS2納米線的制備方法。背景技術(shù)FeS2作為一種具有適合禁帶寬度和較高光吸收系數(shù)的半導(dǎo)體材料,在光電應(yīng)用方面引起了廣泛關(guān)注。FeS2投入實(shí)際應(yīng)用受到了其光電轉(zhuǎn)換效率過(guò)低的影響。而FeS2將制作出納米線,當(dāng)FeS2納米線被大于能帶寬度的光子照射時(shí),光子-空穴對(duì)將會(huì)產(chǎn)生,如果有適合的表面缺陷態(tài)捕獲電子或空穴,電子-空穴對(duì)的復(fù)合將會(huì)被阻止,而表面的氧化還原過(guò)程得以進(jìn)行,降低通過(guò)多項(xiàng)多相界面導(dǎo)致的復(fù)合,從而提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化效率。目前,制備FeS2納米線常采用直接制備...
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