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本發(fā)明涉及銅鐵礦結(jié)構(gòu)晶體材料合成制備領(lǐng)域，特別是利用水熱法在較低溫度下合成制備CuCoO2晶體材料。背景技術(shù)1997年，日本東京工業(yè)大學(xué)的Kawazoe教授在Nature上首次報(bào)道基于價(jià)帶化學(xué)修飾(ChemicalmodulationofValenceband，簡(jiǎn)稱CMVB)理論，利用脈沖激光沉積(PulseLaserDeposition，簡(jiǎn)稱PLD)技術(shù)，制備出具有適合大量多子空穴存在及輸運(yùn)的銅鐵礦結(jié)構(gòu)(ABO2)的本征p型透明導(dǎo)電CuAlO2薄膜，室溫下薄膜的電導(dǎo)率為0.95s/cm。這一成...
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