技術(shù)編號：11436943
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及反應(yīng)設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種高效除塵的反應(yīng)器。背景技術(shù)四氟化碳是目前微電子工業(yè)中重要的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。四氟化碳合成方法很多，包括氫氟化碳與氟氣、氯氟化碳在催化劑存在下與氟化氫以及氟氣與碳源直接接觸反應(yīng)制備四氟化碳等。其中，目前成熟工藝采用氫氟化碳、氯氟化碳做碳源制備四氟化碳，原材料價格昂...
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