技術(shù)編號(hào):1143810
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總體上、但非排他性地涉及一種檢測指紋的裝置和方法。更具體而言,但非排他性地,涉及一種通過相對于存留指紋區(qū)域的周圍表面形成差分電荷密度來檢測指紋的 方法和裝置。背景技術(shù)通過使用與指紋殘留物中的汗腺分泌物(氨基酸)和/或者皮脂分泌物(脂肪酸) 的化學(xué)反應(yīng)來查找和檢測存留在金屬或者其他表面上的指紋是眾所周知的。其他檢測潛在 指紋的方法涉及將指紋殘留物用作對電化學(xué)反應(yīng)或者還原/氧化反應(yīng)(氧化還原反應(yīng))的 一種絕緣物。當(dāng)存留有指紋的表面變得潮濕(會(huì)除去水溶性汗...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。