技術(shù)編號：11449733
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。通過非均勻氣流的掩模版冷卻相關(guān)申請的交叉引用本申請要求于2014年12月31日遞交的US62/098,979和于2015年2月3日遞交的US62/111,558的優(yōu)先權(quán)，且它們通過引用全文并入本文中。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種圖案形成裝置溫度控制系統(tǒng)，該圖案形成裝置溫度控制系統(tǒng)例如可用于通過使用橫跨圖案形成裝置的表面的氣流控制在光刻設(shè)備中的圖案形成裝置的溫度。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所期望的圖案施加到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情形中...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。