技術編號：11454743
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。用于雙陷波紋波濾波的方法和設備相關申請的交叉引用本申請要求2014年12月31日提交的美國專利申請14/587443的優(yōu)先權，通過引用將其整體結合到本文中。背景技術本發(fā)明的實施例一般涉及功率電子器件。具體實施例涉及用于對于從梯度功率放大器(其用于磁共振成像(MRI)系統(tǒng)中)所輸出的電壓進行濾波的設備和方法。一般來說，由MRI系統(tǒng)所產(chǎn)生的圖像的質(zhì)量將受到其電子組件的可重復性和保真度的影響。具體來說，梯度子系統(tǒng)功率放大器強烈地影響采用其體素化（voxellated）(在相等大小和共同取向的體積段中掃...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。
該類技術注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學習。