技術(shù)編號(hào):11526753
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使膜在基板上成膜的成膜裝置。背景技術(shù)作為使膜在基板上成膜的方法,具有化學(xué)氣相沉積(CVD)法。然而,在化學(xué)氣相沉積法中需要進(jìn)行真空下的成膜,并且除了真空泵等之外還需要使用大型的真空容器。此外,在化學(xué)氣相沉積法中,從成本的觀點(diǎn)等出發(fā),存在作為被成膜的基板難以采用大面積的基板這樣的問(wèn)題。對(duì)此,能夠?qū)崿F(xiàn)大氣壓下的成膜處理的霧化法受到關(guān)注。作為與利用霧化法的成膜裝置等相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù),例如存在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所涉及的技術(shù)。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所涉及的技術(shù)中,從噴霧用噴嘴向配置于大氣中的基板噴射霧化后的原料溶液...
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