技術(shù)編號：11576579
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種實(shí)現(xiàn)定點(diǎn)去除的聚焦離子束四級柵網(wǎng)系統(tǒng)及其方法。背景技術(shù)在科學(xué)和工程技術(shù)領(lǐng)域，超精密光學(xué)元件的制造技術(shù)正在成為關(guān)注的熱點(diǎn)，光學(xué)元件超精密化發(fā)展，是光學(xué)系統(tǒng)自身發(fā)展極限化所提出的要求。現(xiàn)代短波光學(xué)、強(qiáng)光光學(xué)、電子學(xué)、IC技術(shù)、信息存儲(chǔ)技術(shù)及薄膜科學(xué)的發(fā)展對表面的要求則更為苛刻，一般稱表面粗糙度優(yōu)于納米量級的表面為超光滑表面。常用的超光滑表面加工方法有浴法拋光、浮法拋光及延展性拋光等。此類加工方法雖可得到極低的表面粗糙度，但由于傳統(tǒng)工藝主要采用接觸式加工方式，即使可得到滿足表面粗糙度要求...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。