技術(shù)編號：11587802
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一件用于從化工業(yè)極端高壓(10-20MPa)并具有復雜氣氛組成的環(huán)境下向質(zhì)譜儀工作區(qū)采樣的裝置，也可以用于提供其他超高真空設備從高壓區(qū)域的氣體采樣。背景技術(shù)質(zhì)譜儀工作原理雖然各有不同，但都要求在背景氣壓為10-8torr或更低的真空環(huán)境下保護，工作時氣壓一般不超過10-5torr，這是由質(zhì)譜采集設備本身的儀器工作原理和分析精度要求決定的。而作為質(zhì)譜分析的采樣環(huán)境，除了少數(shù)基礎科研的原位分析環(huán)境可以直接符合質(zhì)譜儀本身的工作環(huán)境要求以外，多數(shù)為實用環(huán)境分析要求，如應用較多的工業(yè)殘氣分析，都...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。