技術編號：11600456
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及半導體加工技術領域，尤其涉及一種防信號干擾裝置。背景技術物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition，PVD)，是電子器件制造中最常用的工藝之一。PVD是在真空室(物理氣相沉積腔體)中進行的一種等離子體加工，在進行氣相沉積操作時需要用到靜電吸盤(E-chuck)。如圖1所示，靜電吸盤上連接有靜電吸盤水管(包括E-chuck出水管2和E-chuck入水管1)、氣管3以及電源線4，電源線4連接E-chuck的電源輸入裝置5。E-chuck水管、氣管3以及電源線4三者之間...
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