技術(shù)編號(hào)：11602162
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及包括帶有支座的板的系統(tǒng)，其中，該板在室溫以及較高溫度下都與所述板和支座的熱脹無(wú)關(guān)地在該支座內(nèi)定中，并且該板在較高溫度下可以在該支座內(nèi)自由膨脹。背景技術(shù)為了制造涂層，當(dāng)前尤其采用了濺射電弧工藝，其屬于所謂的PVD工藝(PVD:物理氣相沉積)。在此，靶被濺射或蒸發(fā)。在此工藝過(guò)程中，靶是灼熱的并且必須被冷卻。在此，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，這種冷卻例如通過(guò)所謂的金屬箔冷卻板類(lèi)型的冷卻板來(lái)進(jìn)行，其在背面冷卻該靶，如圖2所示。通過(guò)冷卻介質(zhì)壓力，金屬箔被壓緊到靶上并由此提供了從冷卻介質(zhì)到該靶的良好導(dǎo)熱。根據(jù)功...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。