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技術(shù)編號(hào)：11630539

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本發(fā)明涉及用作拋光墊的拋光層的拋光層用成型體，所述拋光墊用于對半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體器件、硅晶片、硬盤、玻璃基板、光學(xué)產(chǎn)品或各種金屬等進(jìn)行拋光。背景技術(shù)作為用于對半導(dǎo)體晶片進(jìn)行鏡面加工、對半導(dǎo)體器件的絕緣膜、導(dǎo)電體膜的表面進(jìn)行平坦化的拋光方法，已知有化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)。CMP是使用含有磨料及反應(yīng)液的拋光漿料(以下也簡稱為漿料)通過拋光墊對晶片等被拋光材料的表面進(jìn)行拋光的方法。以往，作為CMP用的拋光墊，廣泛使用了無紡布型的拋光墊。無紡布型的拋光墊是包含含浸有聚氨酯的無紡布的柔軟拋光墊。由于無紡布...
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