技術(shù)編號：11650379
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。概括地說，本公開內(nèi)容涉及過程控制系統(tǒng)，并且更具體地說，涉及針對過程控制設(shè)備的溫度控制。背景技術(shù)過程控制系統(tǒng)通常包括許多過程控制現(xiàn)場設(shè)備，這些現(xiàn)場設(shè)備中的一些現(xiàn)場設(shè)備可能暴露于周圍溫度相對高或低和/或變化很大的操作環(huán)境中。由于這些現(xiàn)場設(shè)備的部件中的許多部件被設(shè)計為在更加溫和的環(huán)境中工作，因此這種溫度條件會對現(xiàn)場設(shè)備的操作具有負(fù)面影響。一些現(xiàn)場設(shè)備可以被包圍在保護(hù)性殼體中。然而，這些殼體無法有效地防止現(xiàn)場設(shè)備受到極端溫度或溫度變化的影響。發(fā)明內(nèi)容本公開內(nèi)容的一個方面提供了一種過程控制裝置，包括：殼體...
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