技術(shù)編號：11686435
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種新型多晶硅片清洗機。背景技術(shù)目前，超聲波清洗的目的主要是清除多晶硅表面的沾污，如微粒，有機物，無機金屬離子、氧化層等雜質(zhì)。多晶硅表面吸附雜質(zhì)的主要原因是，多晶硅表面原子垂直向上的化學(xué)鍵被破壞成為懸空鍵，在多晶硅表面形成自由力場，極易吸附各種雜質(zhì)。這些雜質(zhì)和多晶硅之間迅速形成化學(xué)吸附，難以去除。在生產(chǎn)多晶硅的生產(chǎn)工藝過程中，其中的一個重要環(huán)節(jié)，是采用超聲波清洗應(yīng)用技術(shù)，但是一般超聲波清機洗清洗效率低，且檢驗不合格產(chǎn)品需重頭清洗，使清洗效率變低，且一次只能清...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。