技術(shù)編號：11706818
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及掩模版技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種集成電路掩模版Cr缺失的檢測方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體、集成電路、光伏產(chǎn)品等電子產(chǎn)品制造過程中，需要對以半導(dǎo)體晶片和光掩模版為代表的各種基版進行光刻處理，這些基版還包括液晶顯示器、等離子體顯示器用玻璃基版、磁盤、光磁盤母版等，以下統(tǒng)稱為掩模版。在加工時，需要使用光致抗蝕材料(光刻膠)在基版上形成集成電路和半導(dǎo)體器件的布局圖案或者其它電路圖案和數(shù)據(jù)圖案。新基版以及完成曝光、顯影、蝕刻、去膠等加工工藝后的基版會出現(xiàn)一定的Cr缺失缺陷，需要對基版經(jīng)行檢測，從而導(dǎo)致機臺負...
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