技術編號：11726641
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種環(huán)拋加工修正盤表面形狀誤差的檢測裝置及檢測方法。背景技術環(huán)拋加工因其能夠有效地抑制中頻誤差并且殘留的亞表面損傷層深度很淺，因而被廣泛用作平面光學元件的最終精密拋光。但是，低頻面形誤差的有效快速收斂難題卻一直制約著加工效率的提高。面形誤差主要取決于加工設備的運動參數(shù)以及元件和瀝青拋光盤的界面接觸應力分布。針對面形收斂問題，目前普遍采用的方法是改變修正盤的偏心距進而改變?yōu)r青拋光盤的面形，實現(xiàn)元件表面材料的非均勻去除，最終達到元件表面均一化的目的。而修正盤自身的面形誤差對元件材料的單點去...
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