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本發(fā)明涉及一種氧化硅晶化的方法，尤其是涉及一種熔鹽體系下低溫晶化氧化硅的方法。背景技術(shù)氧化硅是地球上存在最多的材料之一，其存在形式主要有三種：石英(density＝2.65g·cm-3,trigonal)，磷石英(density＝2.27g·cm-3,cellmonoclinic)，以及方石英(density＝2.32g·cm-3,tetragonal)。在常壓下，石英在1143K穩(wěn)定存在，磷石英的穩(wěn)定范圍在1143-1743K，方石英1743-1973K。氧化硅通常應(yīng)用在半導(dǎo)體器件領(lǐng)域。介孔氧...
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