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技術(shù)編號：11757603

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修整的監(jiān)視方法以及研磨裝置本發(fā)明申請是申請日為2013年8月27日、申請?zhí)枮?01310384344.2、發(fā)明名稱為“修整的監(jiān)視方法以及研磨裝置”的發(fā)明申請的分案申請。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及對研磨晶片等基板的研磨墊的修整處理進(jìn)行監(jiān)視的方法以及研磨裝置。背景技術(shù)以CMP(化學(xué)機(jī)械拋光；ChemicalMechanicalPolishing)裝置為代表的研磨裝置一邊向貼附在研磨臺上的研磨墊上供給研磨液，一邊使研磨墊與基板的表面相對移動，由此研磨基板的表面。為了維持研磨墊的研磨性能，需要通過修整器對研磨墊...
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