技術編號：1179071
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于計劃利用接近目標點的射線的照射的方法、一種相應的用于照射的方法、一種用于相應的照射的裝置和一種用于控制這種裝置的控制系統(tǒng)。背景技術利用一條接近不同點的射線照射目標(束掃描)是已知的。因此例如在照射腫瘤時例如使用特別是具有質(zhì)子、α粒子或碳核的粒子射線、尤其是離子射線。順序依次地利用射線接近目標區(qū)域的各部分、目標點。目標點是例如可通過三個笛卡爾坐標(X，y, ζ)的數(shù)據(jù)定義的地點，該地點通常位于要照射的對象之內(nèi)和特別位于目標體積之內(nèi)、但必要時...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。