技術(shù)編號：11807593
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于熒光顯微成像領(lǐng)域，具體涉及一種基于柱透鏡聚焦的線掃描受激發(fā)射損耗顯微成像裝置。背景技術(shù)遠(yuǎn)場熒光發(fā)光顯微術(shù)被廣泛用于研究生物樣本，但由于受阿貝衍射極限限制，遠(yuǎn)場光學(xué)顯微成像的極限分辨率橫向大致為200nm，縱向?yàn)?50nm（Science316,1153(2007)）。為進(jìn)一步提高遠(yuǎn)場顯微成像分辨率，大量新穎的超分辨成像技術(shù)被提出，其中受激發(fā)射損耗（StimulatedEmissionDepletion，STED）顯微術(shù)（NATURE440，935（2006））是最近發(fā)展較快的一種超分辨...
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