技術(shù)編號：11809844
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及使用多個電感和電容設備來施用多種等離子體條件以確定匹配網(wǎng)絡模型的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)等離子體系統(tǒng)用于控制等離子體處理。等離子體系統(tǒng)包括多個射頻(RF)源、阻抗匹配電路和等離子體反應器。工件放置在等離子體室內(nèi)，在等離子體室中產(chǎn)生等離子體以處理工件。重要的是，不受等離子體系統(tǒng)中的一個部件用另一個的更換或與另一個一起使用的限制，工件以相似或均勻的方式進行處理。例如，當?shù)入x子體系統(tǒng)的一部分被替換為另一個部分時，工件被不同地處理。正是在這樣的背景下，產(chǎn)生在本公開中描述的實施方式。發(fā)明內(nèi)容本公開的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。