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技術(shù)編號：11810080

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包括輔助位線的半導(dǎo)體裝置相關(guān)申請的交叉引用本申請要求于2015年5月20日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請No.10-2015-0070648的優(yōu)先權(quán)，該申請的全部內(nèi)容以引用方式并入本文中。技術(shù)領(lǐng)域本公開涉及半導(dǎo)體裝置。背景技術(shù)為了增大非易失性半導(dǎo)體存儲器裝置的集成密度，開展了關(guān)于豎直類型NAND(VNAND)溝道結(jié)構(gòu)的研究。例如，在H.Tanaka等人的“用于超高密度閃存的穿孔和插塞工藝的位成本可擴充技術(shù)(BitCostScalableTechnologywithPunchandPlugPr...
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