技術(shù)編號:11927321
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型屬于等離子裝置領(lǐng)域,具體為等離子焰流發(fā)生器,尤其涉及一種等離子焰流發(fā)生器。背景技術(shù)等離子態(tài)是物質(zhì)的第四態(tài),宇宙中幾乎99﹪的物質(zhì)(不包括尚未確認(rèn)的暗物質(zhì))都處于等離子態(tài)。等離子體射流與一般流體在流動特征上有相似性,具有兩種流動狀態(tài):層流與湍流。對某一指定流體,當(dāng)其流速小于一特定值時,流體作有規(guī)則的層狀或流束狀運(yùn)動,流體質(zhì)點沒有橫向運(yùn)動,質(zhì)點間互不干擾地前進(jìn),這種流動形式叫層流;當(dāng)流體流速大于該值時,流體有規(guī)則的運(yùn)動遭到破壞,質(zhì)點除了主要的縱向運(yùn)動外還有附加的橫向運(yùn)動,流體質(zhì)點交錯混亂地...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。