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技術(shù)編號：11996174

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本發(fā)明屬于氣體生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及生產(chǎn)甲硅烷（SiH4）、乙硅烷（Si2H6）、丙硅烷（Si3H8）等的方法，尤其適用乙硅烷的制造方法。背景技術(shù)在微電子產(chǎn)品制造過程，硅用以隔離電子精密組件中各導(dǎo)電層。由于組件，例如芯片，一再追求精密度，規(guī)格設(shè)計越來越細，從微米級進步到納米級，所以硅隔離層已經(jīng)無法用機械方法切割形成，而必須用氣相層積法形成，所以硅烷類的使用形成必須之材料。乙硅烷是一種很有前途的硅膜先體。與甲硅烷相比，它具有沉積速度快、溫度要求低、膜均勻度高等優(yōu)越性，是半導(dǎo)體工業(yè)中頗有吸引力的特種...
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