技術(shù)編號：12012403
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及超精密加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于光電子/微電子半導(dǎo)體基片及光學(xué)表面的平面平坦化加工，具有可控動磁場的動態(tài)磁流變拋光裝置。背景技術(shù)隨著科技的進步以及需求的增長，對光學(xué)元件光學(xué)性能的要求越來越高，要求其表面精度需要達到超光滑程度(粗糙度Ra達到1nm以下)，面形精度也有較高的要求(形狀精度達到0.5微米以下)。而在最近十年較為熱門的LED應(yīng)用領(lǐng)域中，單晶硅(Si)、單晶鍺(Ge)、砷化鎵(GaAs)、單晶碳化硅(SiC)和藍寶石(Al2O3)等作為其半導(dǎo)體襯底材料，同樣要求具有超平...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。