技術(shù)編號:12033262
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種基體校正系數(shù),特別是涉及一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法。背景技術(shù)基本參數(shù)法是一種利用樣品元素對激發(fā)射線和熒光射線的質(zhì)量吸收系數(shù)、元素的激發(fā)因子、儀器常數(shù)等基本參數(shù)和樣品的化學(xué)組成計(jì)算待測元素所發(fā)出特征X射線強(qiáng)度為基礎(chǔ)的XRF分析方法。待測元素所發(fā)出特征X射線強(qiáng)度與基本參數(shù)和樣品化學(xué)組成的關(guān)系用Sherman方程表示。在Sherman方程中,待測元素?zé)晒鈴?qiáng)度是其濃度的隱函數(shù),即濃度不能直接用強(qiáng)度表示。Sherman方程的簡單表示式見式(1)式(1)中:Ri——樣品中元素i的相...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。