技術編號：12039204
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種水平保持基板地進行液處理的液處理裝置。背景技術在半導體產品的制造工藝、平板顯示器（FPD）的制造工藝中，多使用向作為被處理基板的半導體晶圓、玻璃基板供給處理液而進行液處理的工藝。作為這樣的工藝，例如，有用于去除已附著在基板上的微粒、污垢(日文:コンタミネーション)等的清洗處理等。作為用于實施清洗處理的液處理裝置，公知有在將半導體晶圓等基板保持在旋轉卡盤上并在使晶圓水平旋轉的狀態(tài)下向晶圓的表面供給處理液（藥液、沖洗液等）而進行清洗處理的單片式的旋轉清洗裝置（例如，參照專利文獻1）。專...
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