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用于化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)的載具頭的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12039708

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本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng),具體的涉及在化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中施加拋光壓力于基板的載具頭。背景技術(shù)當(dāng)生產(chǎn)半導(dǎo)體或玻璃基板,和制造集成電路時(shí),以特定的步驟拋光或平整基板表面的需求已增加。作為滿足這個(gè)需求的技術(shù),化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)已被廣泛的使用。通常,基板的CMP通過(guò)在拋光盤上附著拋光墊,將基板安裝于稱作載具頭的基板接收單元進(jìn)行,然后,當(dāng)應(yīng)用拋光液到拋光墊上時(shí),同時(shí)旋轉(zhuǎn)拋光盤和載具頭以產(chǎn)生拋光墊和基板之間的摩擦力?;旧?,載具頭包括接收來(lái)自驅(qū)動(dòng)軸的動(dòng)力的基座和提供載具頭部件可被安裝的空間,基板可...
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