技術(shù)編號(hào)：12039753
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置的制造方法、基板處理方法、基板處理裝置、氣化系統(tǒng)和噴霧過濾器，特別是涉及具有使用液體原料來處理半導(dǎo)體晶圓的工序的半導(dǎo)體裝置的制造方法、基板處理方法以及合適用于這些方法的氣化系統(tǒng)和噴霧過濾器。背景技術(shù)作為半導(dǎo)體裝置的制造工序的工序之一，專利文獻(xiàn)1公開有使用液體原料在基板上成膜的技術(shù)。專利文獻(xiàn)1：日本特開2010-28094號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容在用液體原料進(jìn)行成膜等基板處理時(shí)，用使液體原料氣化而成為氣體狀態(tài)的原料氣體。但是，用這樣的原料在半導(dǎo)體晶圓上進(jìn)行成膜的情況下，有時(shí)由于氣化不良等...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。