技術(shù)編號：12061162
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是有關(guān)光學(xué)薄膜特性的檢測技術(shù)，涉及一種光學(xué)薄膜超寬帶光學(xué)常數(shù)測試方法。背景技術(shù)在光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，光學(xué)常數(shù)是多層膜設(shè)計(jì)和光學(xué)性能表征的重要參數(shù)之一，對光學(xué)常數(shù)的表征和測量是首要工作之一。近年來，隨著超寬帶光學(xué)薄膜應(yīng)用的發(fā)展，如寬帶固體調(diào)諧激光技術(shù)(400nm-1200nm)，寬帶紅外光譜成像技術(shù)(0.9um-14um)，三光復(fù)合探測技術(shù)(0.7um-12um)等，對光學(xué)薄膜的研制提出了寬帶甚至超寬帶的需求。因此，超寬帶(0.3um-20um)光學(xué)薄膜光學(xué)常數(shù)的表征...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。