技術(shù)編號(hào)：12116345
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻直寫曝光機(jī)及投影顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種LDI自動(dòng)聚焦控制方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻技術(shù)是用于在基底表面上印刷具有特征構(gòu)圖的技術(shù)。這樣的基底可用于制造半導(dǎo)體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機(jī)械電子芯片、光電子線路芯片等。在直寫式光刻機(jī)的光刻系統(tǒng)中，特征圖形由空間光調(diào)制器微鏡陣列產(chǎn)生，這些微小鏡面可以獨(dú)立尋址單獨(dú)受控以不同的傾斜方向反射照射的光束，以產(chǎn)生空間光強(qiáng)調(diào)制，最后將特征圖形通過相應(yīng)成像光路投影到印刷電路板(PrintedCircuitB...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。