技術(shù)編號：12128603
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。：本發(fā)明涉及一種X射線聚焦光學(xué)元件及其設(shè)計方法，屬于同步輻射光束線工程、同步輻射光學(xué)領(lǐng)域。背景技術(shù)：同步輻射具有高亮度、寬波譜、高準(zhǔn)直性、脈沖性、以及良好的偏振特性，是材料學(xué)、環(huán)境學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域不可缺少的高性能光源。同步輻射裝置是高性能X射線的主要來源。X射線穿透能力強(qiáng)，在X射線譜學(xué)分析、熒光分析、X射線衍射、X射線吸收與相位成像等很多領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。在上述研究領(lǐng)域，微米尺度甚至納米尺度的X射線聚焦光斑十分有必要。但是在X射線被發(fā)現(xiàn)之后的一百多年里，由于X射線在材料中的折射效應(yīng)非常微弱，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。