技術(shù)編號(hào)：12251536
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明大體涉及用于以圖案沉積材料的方法和設(shè)備。背景技術(shù)諸如電子射束系統(tǒng)、離子射束系統(tǒng)、激光射束系統(tǒng)、團(tuán)簇射束系統(tǒng)和中性粒子射束系統(tǒng)的射束系統(tǒng)被用于通過(guò)刻蝕或者沉積材料創(chuàng)建表面上的特征。聚焦射束被用于從樣品移除材料，并將材料沉積到樣品上。材料能夠通過(guò)濺射而被移除，其中，射束中的粒子的動(dòng)量物理地從樣品表面撞擊原子或分子。粒子或者激光射束可以被用于誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)。在一些情況下，射束誘導(dǎo)前體氣體的分解。前體氣體優(yōu)選地是穩(wěn)定的，從而其不與遠(yuǎn)離射束碰撞區(qū)域的工件反應(yīng)。沉積或者刻蝕的分辨率由射束直徑以及射束和工...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。