技術(shù)編號(hào)：12265196
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光電精密測(cè)量領(lǐng)域，具體涉及薄膜厚度測(cè)量方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)在膜厚測(cè)量方法中，光學(xué)方法是應(yīng)用最為廣泛的方法之一，具有非接觸性、高靈敏度性和高精度性等優(yōu)點(diǎn)，主要包括橢圓偏振法（橢偏法）、光譜法和反射角度分布法。其中，橢偏法具有很高的測(cè)試靈敏度和精度，但是很容易受到各種參數(shù)影響，系統(tǒng)的各種誤差、環(huán)境噪聲、樣品表面粗糙度、待測(cè)薄膜與數(shù)學(xué)色散模型的差異等會(huì)導(dǎo)致測(cè)量結(jié)果的穩(wěn)定性變差；光譜法以光的干涉理論為基礎(chǔ)，通過測(cè)量反射率R（或透過率T）隨波長(zhǎng)變化的曲線，計(jì)算薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，該方法計(jì)算過程...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。