技術(shù)編號：12269663
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及版圖設(shè)計(jì)中的OPC(光學(xué)鄰近效應(yīng)修正)方法，更具體地，涉及一種金屬線層小尺寸冗余圖形的添加和處理方法。背景技術(shù)在進(jìn)行版圖設(shè)計(jì)時，通常會應(yīng)用到OPC(光學(xué)鄰近效應(yīng)修正)和DFM(可制造性設(shè)計(jì))兩種方法。OPC中常用的提高金屬線層光刻工藝窗口的方法包括：1)對不同金屬線層的圖形增加不同的補(bǔ)值；2)對金屬線層小尺寸圖形添加亞分辨率輔助圖形。其中，在應(yīng)用上述方法1)時，對于尺寸小、相對孤立的金屬線，如果滿足光刻工藝窗口的要求，需要增加比較大的補(bǔ)值，但是補(bǔ)值過大會改變電路中的電阻。而在應(yīng)用上述方...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。