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一種用于雙面研磨拋光設(shè)備上的單面拋光系統(tǒng)的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12367727

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本發(fā)明涉及材料加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于雙面研磨拋光設(shè)備上的單面拋光系統(tǒng)。背景技術(shù)隨著科學(xué)技術(shù)的迅猛發(fā)展,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略地位越來(lái)越重要。它已成為與國(guó)民經(jīng)濟(jì)、國(guó)防建設(shè)、人民生活和信息安全息息相關(guān)的技術(shù)性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展主要表現(xiàn)在兩個(gè)方面:一是不斷縮小的特征尺寸,已滿足微型化、高密度化的要求;二是不斷擴(kuò)大的晶片尺寸,以增加芯片產(chǎn)量,降低單元制造成本。特征尺寸的不斷縮小對(duì)晶片表面的質(zhì)量提出了苛刻的要求——亞微米級(jí)平整度、納米級(jí)表面粗糙度和高表面完整性,這也就不斷促使半導(dǎo)體材料加工技...
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