技術(shù)編號:12370356
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種高壓金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管元件以及其制造方法,尤其是涉及一種具有降低寄生電容效果的高壓金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管元件以及其制造方法。背景技術(shù)在具有高壓處理能力的功率元件中,雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(double-diffusedMOS,DMOS)晶體管元件持續(xù)受到重視。常見的DMOS晶體管元件有垂直雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(verticaldouble-diffusedMOS,VDMOS)與橫向雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)晶體管元件。而LDMOS晶體管元件因具有較高的操作頻寬與操作...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。