技術(shù)編號(hào)：12415648
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種陰極電弧離子鍍的磁過濾裝置，用于減少制品表面大顆粒的密度，提高制品表面質(zhì)量。背景技術(shù)陰極電弧離子鍍技術(shù)是一種在工業(yè)上廣泛應(yīng)用的物理氣相沉積技術(shù)。與其他氣相沉積技術(shù)相比，它具有離化率高，沉積速率快，薄膜與基體結(jié)合力大等優(yōu)點(diǎn)。但是，陰極離子鍍制備的樣品表面常常會(huì)出現(xiàn)直徑在1-10μm的大顆粒。大顆粒缺陷的存在嚴(yán)重限制了陰極電弧離子鍍技術(shù)在制備光、電學(xué)薄膜，以及納米結(jié)構(gòu)膜方面的應(yīng)用。為此，人們提出了包括，降低弧電流、采用脈沖弧源、加強(qiáng)靶的冷卻、增加陰極弧斑的移動(dòng)速度、改變反應(yīng)氣體的送氣量...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。